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硬盘BPM技术失宠纳米压印光刻设备厂商MII开始裁员万芳

发布时间:2020-02-14 11:36:00 阅读: 来源:搪玻璃反应釜厂家

硬盘BPM技术失宠 纳米压印光刻设备厂商MII开始裁员

随着硬盘盘片存储密度的增加,存储信息用的磁颗粒尺寸也在不断减小,而普通的小尺寸磁颗粒很容易在冷热交变的工作环境下出现数据丢失的问题,为此需要提高磁颗粒的矫顽磁性(coercivity),但是矫顽磁性提升后普通的写磁头将无法完成数据写入工作,因此需要利用磁颗粒的矫顽磁性可随温度上升而降低的特点,使用激光照射磁颗粒进行加热,降低其矫顽磁性,然后再使用写磁头进行写入。这就是HAMR技术得名的由来。

回到正题,Molecular Imprints公司的CEO Mark Melliar-Smith表示,他不愿意透露将被辞退的具体员工人数,不过他也没有对外界盛传的20位员工将被辞退的说法表示异议。“我们正在进行一次小裁员行动,而我们在CMOS芯片制造领域的成就其实仍在继续进展。在磁盘盘片制造领域,有关技术正式推出的日期可能会比我们原先预计的要迟2-3年。不过对硬盘盘片制作领域而言,纳米压印光刻技术一定会被采用,这只是个时间上的问题。”

Molecular Imprints公司(以下简称MII公司)在此次裁员之前,全公司的员工总数在120名左右。而过去几年里,包括在最近一段时间的经济危机大背景下,这家公司一直在扩充人马,他们招聘了一批光刻研发专家,设备制造技术专家以及销售人员等。这些情况与最近公司的裁员行动形成了惊人的反差。有消息来源称,公司的战略是准备开始在硬盘盘片制造领域取得显著赢利,并计划发行股票上市,然后再进入亚20nm CMOS光刻市场。

Melliar-Smith表示此次裁员涉及的人员多数并非工程类职员,而主要涉及因硬盘盘片制造用纳米压印技术无法及时推出而受到影响的业务人员。

MII公司将希望寄托在硬盘厂商对纳米压印光刻设备的兴趣上,理论上讲,位元图像介质技术需要使用纳米压印光刻技术来制造盘片,这种技术不仅能满足盘片性能方面的要求,而且还具备较高的产出量。目前以东芝为代表人物的一众厂商仍在继续开发BPM技术,不过实现BPM需要使用纳米压印光刻设备,而这类设备的成本则相比HAMR方案更贵,虽然HAMR技术的实现需要往硬盘中增加激光二极管写入装置,但这种装置的成本仅数十美分左右。

日立全球存储技术公司的BPM研发技术主要应用了两种技术:纳米压印光刻和定向自组装技术(DSA),这两种技术的组合可以在保证盘片存储密度的前提下降低制造设备的成本。

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